Плазмотрон PP-6-04 предназначен для плазменно-порошковой наплавки различных деталей сплавами на основе Fe, Ni и Co с целью защиты их от износа, коррозии и т.д.

Плазмотрон многофункционален и является модификацией плазмотрона PP-6-02. В отличие от предыдущей модели в плазмотроне PP-6-04 реализованы две разные системы ввода порошка в дугу, которые работают как независимо, так и вместе.
Первая система(внутренняя) обеспечивает равномерно распределенный по окружности ввод через систему каналов на плазмообразующем сопле, а вторая(внешняя) - локальный через 2 противоположных отверстия в торце фокусирующего сопла. Благодаря этому имеется возможность успешно наплавлять сравнительно крупные тугоплавкие порошки, используя систему распределенного ввода, и тонкие легкоплавкие порошки, используя локальный ввод. В последнем случае для уменьшения потерь порошка и улучшения формирования валика в плазмотроне предусмотрен дополнительный поток стабилизирующего газа, который повышает стабильность горения дуги и обеспечивает более благоприятные траектории движения порошка в дуге.

Плазмотрон позволяет подавать одновременно с двух питателей два типа порошков, которые расплавляясь в сварочной ванне обеспечивают получение нового типа сплава. Соотношение подаваемых порошков можно менять в широком диапазоне.

Очень эффективно использовать плазмотрон для наплавки композиционных сплавов, используя раздельную подачу армирующего и матричного порошков.

Конструктивно плазмотрон состоит из двух частей - собственно плазмотрона и держателя с вертикальным расположением коммуникаций, являющегося неотъемлемой его частью.

Плазмотрон крепится к держателю с помощью четырех болтов, что позволяет очень быстро присоединять или отсоединять его при монтаже и обслуживании.

В качестве рабочего газа используется чистый аргон (99.995% Ar).

Для расширения диапазона использования в состав плазмотрона входят две пары плазмообразующих и фокусирующих сопел различного диаметра. Нужные комбинации сопел выбираются в соответствии с требуемой по технологии мощностью и концентрацией плазменной дуги (см. Таблицу I).